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Flashcards

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Daiana Medina English 121 cards

Cards in this deck (121)

  1. 1De los siguientes enunciados cual no aplica para sistemas Top-down: a. Presenta imperfectos en la estructura superficial. b. Se asemeja a procesos naturales. c. Degradación de estructuras originales. d. Reducción de tamaño.b. Se asemeja a procesos naturales
  2. 2La mejor descripción de la técnica Chemical Vapor Deposition es: a. La transferencia de partículas de vapor desde un material hasta el sustrato. b. La liberación descontrolada de un precursor gaseoso produciendo una monocapa sobre el sustrato; luego se introduce un segundo precursor que reacciona químicamente con el previo. c. La reacción de una mezcla de gases dentro de una cámara de vacío que contiene el sustrato calentado. d. La liberación controlada de un precursor gaseoso produciendo una monocapa sobre el sustrato; luego se introduce un segundo precursor que reacciona químicamente con el previo.c. La reacción de una mezcla de gases dentro de una cámara de vacío que contiene el sustrato calentado.
  3. 3Los métodos de síntesis conocidos como Top-down involucran: a. La obtención de nanoestructuras a partir de estructuras de mayor tamaño. b. La obtención de nanoestructuras a partir de los precursores en fase gaseosa. c. La obtención de nanoestructuras a partir de estructuras de menor tamaño. d. La obtención de nanoestructuras a partir de moléculas, generalmente sales o alcóxidos.a. La obtención de nanoestructuras a partir de estructuras de mayor tamaño.
  4. 4Técnicas químicas que hacen parte del método de fabricación Bottom-up: a. LB, SAM, Sol GEL. b. MOVPE, Sol Gel, Spray Pyrolysis. c. PLD, MBE, MOVPE. d. ALE, SAM, MOVPE.a. LB, SAM, Sol GEL.
  5. 5La técnica PLD trabaja con: a. Láser de ultra alta energía. b. LED cuántico. c. Ausencia de dianas. d. Láser de baja energía.a. Láser de ultra alta energía.
  6. 6La técnica PLD se trabaja en condiciones de: a. Ultra alto vacío. b. Alto vacío. c. Ciclos de vacío. d. En condiciones atmosféricas.a. Ultra alto vacío.
  7. 7Una película de Langmuir consiste en: a. Una monocapa de moléculas anfifílicas ordenadas sobre la superficie del agua. b. Una monocapa de moléculas hidrofílicas ordenadas sobre la superficie del sustrato. c. Una monocapa de moléculas hidrofílicas ordenadas sobre la superficie del agua. d. Una monocapa de moléculas anfifílicas depositadas sobre un sustrato.a. Una monocapa de moléculas anfifílicas ordenadas sobre la superficie del agua.
  8. 8Técnicas que requieren de presencia e UHV para obtener resultados adecuados: a. Sol-gel-PVD. b. CVD-MBE. c. PLD-MOVPE. d. PLD-MBE.d. PLD-MBE.
  9. 9Técnica restrictiva con la afinidad química: a. PVD b. CVD c. IVD d. ALDd. ALD
  10. 10Un sistema superconductor es: a. 3D b. 0D c. 1D d. 2Dd. 2D
  11. 11Un aspecto importante de los procesos de CVD es la necesidad de que os gases precursores sean reactivos para que tenga lugar la reacción química; esto se lograría mediante: a. Activación protónica b. Activación por fricción. c. Activación fotónica. d. Activación de rayos X.c. Activación fotónica.
  12. 12Cual de las siguientes afirmaciones es falsa: a. El autoensamblaje es un proceso que no puede ocurrir espontáneamente. b. El autoensamblaje es un proceso que no ocurre solamente en la naturaleza. c. El autoensamblaje es un proceso que puede ocurrir en el vacío. d. El autoensamblaje es un proceso que no ocurre solamente en el laboratorio.a. El autoensamblaje es un proceso que no puede ocurrir espontáneamente.
  13. 13Una de las características del proceso Bottom-Up es que: a. No se asemeja a los procesos de la naturaleza. b. Es más costoso que Top-Down. c. Se obtienen nanoestructuras con menos defectos que en Top-Down. d. Se realiza a gran escala.c. Se obtienen nanoestructuras con menos defectos que en Top-Down.
  14. 14Una de las desventajas de CVD es: a. Se trabaja con deposición química. b. Utiliza recamara de cuarzo. c. Es costosa. d. Solo tiene una entrada y una salida.d. Solo tiene una entrada y una salida.
  15. 15Proceso que genera multicapas: a. Fisisorción. b. TEM. c. Quimisorción. d. Luminiscencia.a. Fisisorción.
  16. 16En LBL se puede usar: a. Polímeros solubles en agua. b. Etanol. c. Uretano. d. Benceno.a. Polímeros solubles en agua.
  17. 17MBE se trabaja en: a. UHV b. Vacío c. A 500 torr d. Condiciones atmosféricas.a. UHV
  18. 18El proceso de hidrografía se asocia con cual proceso de nanotecnología: a. Sol-gel. b. PLD. c. MBE. d. LBL.d. LBL.
  19. 19Cuáles son las moléculas más recomendadas para la fabricación de nanoestructuras por el método Layer by Layer: a. Hidrofóbicas. b. Azúcares. c. Anfifílicas. d. Poliones.d. Poliones.
  20. 20Las siguientes técnicas corresponden a métodos top-down: a. Ball Milling and Plasma spindisk. b. Dry etching y Langmuir-Blodgett. c. Selft-Assembly y Lithography. d. Atomic Layer Deposition y sol-gel.a. Ball Milling and Plasma spindisk.
  21. 21De los siguientes conceptos cual no se aplica al proceso PLD: a. Método en el cual se preparan películas por el método de ablación. b. Una pluma plasma transporta el recubrimiento al sustrato. c. La técnica solo permite el deposito de un recubrimiento monocapa. d. El proceso se realiza a UHV.c. La técnica solo permite el deposito de un recubrimiento monocapa.
  22. 22Técnica que trabaja con delta de presión: a. Evaporación. b. Descarga eléctrica. c. Deposición física. d. Sputtering.a. Evaporación.
  23. 23Son reacciones químicas que tienen lugar en el proceso CVD: a. Sulfatación. b. Nitración. c. Licuefacción. d. Oxidación.d. Oxidación.
  24. 24Técnica utilizada para la fabricación de antiempañantes: a. MBE. b. Langmuir. c. CVD. d. IVD.b. Langmuir.
  25. 25Un CNT se considera una nanoestructura tipo: a. 3D b. 0D c. 1D d. 2Dc. 1D
  26. 26Técnica en la que se obtiene un perfil ultra definido: a. MBE b. CVD c. PVD d. MOVPEa. MBE
  27. 27El grabado en seco, existen dos tipos de grabado con plasma, los cuales son: a. Anisotropía del material de enmascaramiento y remociones fisicoquímicas. b. Reacciones químicas y remoción física. c. Combinación de reacciones químicas y remociones fisicoquímicas. d. Remoción de gases reactivos del sustrato y de materiales de la superficie de un material.c. Combinación de reacciones químicas y remociones fisicoquímicas.
  28. 28Puede ser empleado como nano previsor de tumores cancerosos: a. Ácido ascórbico. b. Ácido linoleico conjugado. c. Ácido salicílico. d. Ácido poliláctico.a. Ácido ascórbico.
  29. 29Es la técnica más empleada para el autoensamblaje electrostático multicapas: a. CVD b. PLD c. LBL d. IVDc. LBL
  30. 30¿Quién descubrió las películas de espesor molecular? a. Agnes Pockel b. Benjamín Franklin. c. Katherine Blodgett. d. Irving Langmuir.d. Irving Langmuir.
  31. 31¿En cuál de los siguientes métodos se trabaja a bajas temperaturas? a. IVD b. LBL c. CVD d. MOVPEb. LBL
  32. 32Son parámetros para garantizar una buena calidad de la película producida en la técnica ALD: a. Las referentes al depósito y substrato. b. Presión y tiempo de depósito. c. Presión y temperatura del substrato. d. Temperatura de la recamara.a. Las referentes al depósito y substrato.
  33. 33Sputtering es una técnica que trabaja con ______ puntos de fusión: a. Medios b. Bajos c. Altos. d. Ausencia dec. Altos.
  34. 34La técnica de autoensamblaje maneja: a. Afinidad geométrica. b. Todas las demás. c. Fuerzas no covalentes. d. Afinidad química.b. Todas las demás.
  35. 35Se utiliza para monitorear el espesor de la película durante la evaporación de la técnica PVD: a. Cambios en la longitud de onda de la QCM. b. Cambios en la frecuencia de resonancia del QCM. c. Cambios de coloración en la superficie del QCM. d. Cambios en la temperatura en el QCM.b. Cambios en la frecuencia de resonancia del QCM.
  36. 36En el proceso de adhesión celular ¿Cuál término no aplica? a. Los sustratos pueden se adecuados por ablación o nanodepósito. b. Esta depende de la relación Ca/P. c. La adhesión célula-célula se da por las cadenas de integrinas. d. La adhesión célula-célula se da por las cadenas de caderinas.c. La adhesión célula-célula se da por las cadenas de integrinas.
  37. 37En la técnica Sol-Gel un Aerogel se obtiene por: a. Licuefacción del solvente. b. Disminución de la concentración de partículas. c. Extracción del solvente. d. Evaporación del solvente.c. Extracción del solvente.
  38. 38Técnicas que requieren la presencia de UHV para obtener resultados adecuados: a. PLD-MBE. b. PLD-MOVPE. c. Sol-gel-PVD. d. CVD-MBE.a. PLD-MBE.
  39. 39La principal diferencia entre MBE y MOVPE es: a. En MVOP el crecimiento de cristales se debe a una reacción química y en MBE a una deposición química. b. En MVOP el crecimiento de cristales se debe a una reacción química y en MBE a una deposición física. c. En MBE el crecimiento de cristales se debe a una sustitución química y en MVOP a una deposición química. d. En MBE el crecimiento de cristales se debe a una reacción química y en MVOP a una deposición química.b. En MVOP el crecimiento de cristales se debe a una reacción química y en MBE a una deposición física.
  40. 40De las técnicas citadas a continuación para sistemas Bottom-up, cuál presenta una mayor tasa de deposición. a. ALD b. CVD c. PLD d. PVDb. CVD
  41. 41Cuál de los siguientes métodos de nanofabricación es el menos costoso: a. IVD b. LB c. MBE d. CVD.d. CVD.
  42. 42En LBL se puede usar: a. Polímeros solubles en agua. b. Etanol c. Benceno d. Todas las anteriores.a. Polímeros solubles en agua.
  43. 43Técnica conocida como un CVD orientado: a. PLD b. MBE c. MOVPE d. ALD.d. ALD.
  44. 44En la técnica de Langmuir, las monocapas coberteras se forman: a. Directamente sobre el sustrato b. En la interfase aire/agua c. Dentro del agua d. Todas las anterioresb. En la interfase aire/agua
  45. 45Los sustratos empleados en la técnica LBL no deben ser de tipo: a. Hidrofóbico. b. Higroscópico c. Hidrofílico d. Ninguna de las anteriores.a. Hidrofóbico.
  46. 46Es una ventaja del método sol-gel: a. Puede producir recubrimientos ultra gruesos con excelente adhesión entre el sustrato metálico y la superficie externa del recubrimiento. b. Se pueden elaborar nuevos materiales que por métodos clásicos son más fáciles de obtener, tales como combinaciones de óxidos (SiO2, TiO2). c. Maneja temperaturas de sinterización 200-600°C. d. Es posible recubrir soportes con geometría simple, gracias a su falta de homogeneidad.c. Maneja temperaturas de sinterización 200-600°C.
  47. 47Cuál de estos enunciados de ALD es falso: a. Es utilizado en el desarrollo de pantallas planas. b. Ocurre procesos de Quimisorción. c. Velocidad de depósito más alta que la CVD. d. Proceso mediante depósito de capas monoatómicas.c. Velocidad de depósito más alta que la CVD.
  48. 48En MOVPE la formación de la capa epitaxial sobre la superficie del sustrato se produce por: a. Deposición. b. Epitaxia. c. Pirólisis. d. Ninguno de los anteriores.c. Pirólisis.
  49. 49El término epitaxia se refiere a: a. Formación de una monocapa cristalina a partir de moléculas. b. Descomposición térmica de un cristal para formar una monocapa. c. Crecimiento de un cristal a partir de una estructura cristalina similar. d. Ninguna de las anteriores.c. Crecimiento de un cristal a partir de una estructura cristalina similar.
  50. 50Técnica utilizada para la formación de ADN. a. CVD b. ALD c. MBE d. SA.d. SA.
  51. 51Se presenta mojabilidad máxima en Langmuir cuando: a. 𝜭 =20° b. 𝜭 =150° c. 𝜭 =0° d. 𝜭=180°c. 𝜭 =0°
  52. 52Un CNT se considera una nano estructura tipo a) 3-D b) 2-D c) 1-D d) 0-Dc) 1-D
  53. 53En cuál de las siguientes técnicas la coordinación entre geometría de distribución, frecuencia de repetición y sistema rotacional de la fuente incidente y los precursores es su fundamento: a) MOVPE b) MBE c) PLD d) Ninguna de las anterioresc) PLD
  54. 54En LBL se puede usar: a) Polímeros solubles en agua b) Etanol c) Benceno d) Todas las anterioresa) Polímeros solubles en agua
  55. 55Un aspecto importante de los procesos de CVD es la necesidad de que los gases precursores sean activados para que tenga lugar la reacción química; esto se lograría mediante: a) Activación de rayos X b) Activación por fricción c) Activación fotónica d) Ninguna de las anterioresc) Activación fotónica
  56. 56De los siguientes conceptos cual no se aplica al proceso PLD a) Método en el cual se preparan películas por el método de ablación b) Una pluma plasma transporta el recubrimiento al sustrato. c) La técnica solo permite el depósito de un recubrimiento mono capa d) El proceso se realiza a UHVc) La técnica solo permite el depósito de un recubrimiento mono capa
  57. 57Técnica conocida como un CVD orientado: a) PLD b) MBE c) MOVPE d) ALDd) ALD
  58. 58Quien descubrió las películas de espesor molecular a) Benjamin Franklin b) Irving Langmuir c) Agnes Pockel d) Katherine Blodgettb) Irving Langmuir
  59. 59Es la técnica mas empleada para e auto ensamblaje electrostático multicapas a) LBL b) CVD c) PLD d) IVDa) LBL
  60. 60De las técnicas citadas a continuación para sistemas Bottom- Up, cual presenta una mayor tasa de depósito: a) CVD b) PVD c) PLD d) ALDb) PVD
  61. 61Cuál de los métodos para preparación de películas mediante la técnica sol-gel permite obtener vidrios autolimpiables: a) Spin-coating b) Electroforesis c) Spray-gel d) Dip-coatingd) Dip-coating
  62. 62En la técnica PLD el material del que se requiere obtener el recubrimiento, es enfocado por el haz de laser pulsado produciéndose una lámina o diana. Esta ablación de la diana genera un plasma en dirección del sustrato. Dicha dirección del láser ira en formas: a) Paralela al sustrato b) Normal respecto al sistema porta dianas c) Angular respecto al sistema porta dianas d) Ninguna de las anterioresc) Angular respecto al sistema porta dianas
  63. 63Cuál de las siguientes afirmaciones es la falsa: a) El autoensamblaje es un proceso que no puede ocurrir espontáneamente b) El autoensamblaje es un proceso que no ocurre solamente en el laboratorio c) El autoensamblaje es un proceso que ocurre solamente en la naturaleza d) El autoensamblaje es un proceso que puede ocurrir en el vacíoa) El autoensamblaje es un proceso que no puede ocurrir espontáneamente
  64. 64Sputtering es una técnica que trabaja con ---------- puntos de fusión: a) Altos b) Bajos c) Cualquiera d) Ninguna de las anterioresa) Altos
  65. 65Técnicas que requiere la presencia de UHV para obtener resultados adecuados: a) CDV-MBE b) Sol-gel – PVD c) PLD –MBE d) PLD –MOVPEc) PLD –MBE
  66. 66En la técnica de Langmuir, las mono capas coberteras se forman: a) Directamente sobre el sustrato b) En la interfase aire/agua c) Dentro del agua d) Todas las anterioresb) En la interfase aire/agua
  67. 67------------ Es un proceso en vacío que permite la transferencia de material en forma de partículas de vapor de una fuente de material al sustrato a) CVD b) PLD c) PVD d) Ninguna de las anterioresc) PVD
  68. 68Técnica que trabaja con delta de presión a) Sputtering b) Evaporación c) Deposición física d) Todas las anterioresb) Evaporación
  69. 69Para llevar a cabo un PLD ideal se debe utilizar un láser ------- con un Angulo de entrada de ------- a) CO2 Y 45º b) CO2 Y 90º c) UV Y 45º d) UV Y 90ºc) UV Y 45º
  70. 70¿Cuál de las siguientes técnicas permite la fabricación de multicapas? a) Autoensamblaje b) Layer by layer c) Chemical etching d) Ninguna de las anterioresb) Layer by layer
  71. 71Existe auto ensamblaje a) Químico b) Físico c) Geométrico d) a y bd) a y b
  72. 72Una de las desventajas de CVD es: a) Se trabaja con deposición química b) Es costosa c) Solo tiene una entrada y una salida d) Todas las anterioresc) Solo tiene una entrada y una salida
  73. 73Un sistema superconductor es: a) OD b) 1D c) 2D d) 3Dc) 2D
  74. 74Comparando las técnicas ALD y CVD, una diferencia entre ellas sería: a) Los precursores de ALD no se descomponen en el proceso térmico, los de CVD pueden que se descompongan b) CVD maneja precursores altamente reactivos y ALD menos reactivos c) En ALD los precursores reaccionan simultáneamente en el sustrato, en CVD reaccionan de manera separada d) A y b son correctasa) Los precursores de ALD no se descomponen en el proceso térmico, los de CVD pueden que se descompongan
  75. 75La interacción hidrofilica (LB) tipo Y y Z es correcto afirmar: a) Y y Z son similares en la tercera fase y hay inmersión b) Y y Z no son similares en ninguna fase y hay inmersión repetido c) Y y Z son similares en la primera fase y hay emersión d) Y y Z son similares en la tercera fase y es un inconveniente para los dos tipos que el agua reaccione con el óxido (sustrato)c) Y y Z son similares en la primera fase y hay emersión
  76. 76Una película de Langmuir consiste en: a) Una mono capa de moléculas anfifilicas depositadas sobre un sustrato b) Una mono capa de moléculas hidrofilicas depositadas sobre una superficie de agua c) Una mono capa de moléculas anfifilicas ordenadas sobre la superficie del agua d) Ninguna de las anterioresc) Una mono capa de moléculas anfifilicas ordenadas sobre la superficie del agua
  77. 77En cuál de los siguientes métodos se trabaja a baja temperatura a) MOVPE b) LBL c) CVD d) Ninguna de las anterioresb) LBL
  78. 78Técnica en la que se obtiene un perfil ultra definido a) CVD b) PVD c) MBE d) Todas las anterioresc) MBE
  79. 79La técnica de auto ensamblaje maneja a) Fuerzas no covalentes b) Afinidad química c) Afinidad geométrica d) Todas las anterioresd) Todas las anteriores
  80. 80Son reacciones químicas que tienen lugar en el proceso CVD: a) Oxidación b) Nitración c) A y B son correctas d) Ninguna de las anterioresa) Oxidación
  81. 81Son parámetros para garantizar una buena calidad de la película producida en la técnica ALD a) Presión y tiempo de deposición b) Presión y temperatura del sustrato c) A y b d) Ninguna de las anterioresc) A y b
  82. 82La principal diferencia entre MBE y MOVPE a) En MBE el crecimiento de cristales se debe a una reacción química, y en MOVPE a una deposición química b) En MBE el crecimiento de cristales se debe a una sustitución química y en MOVPE a una deposición química c) En MOVPE el crecimiento de cristales se debe a una reacción química y en MBE a una deposición física d) En MOVPE el crecimiento de cristales se debe a una reacción química y en MBE a una deposición químicac) En MOVPE el crecimiento de cristales se debe a una reacción química y en MBE a una deposición física
  83. 83Una de las características del proceso Bottom-Up es que: a) Es mas costoso que top-down b) Se realiza a gran escala c) No se asemeja a los procesos de la naturaleza d) Se obtienen nanoestructuras con menos defectos que en top-downd) Se obtienen nanoestructuras con menos defectos que en top-down
  84. 84Partículas empleadas para bombardear la superficie del material a depositar y convertirlo en fase vapor en las técnicas de deposición física a) Iones b) Electrones c) Fotones d) Todas las anterioresd) Todas las anteriores
  85. 85La mejor descripción de la técnica CVD es: a) La transferencia de partículas de vapor desde un material hasta el sustrato b) La liberación controlada de un precursor gaseoso produciendo una monocapa sobre el sustrato; luego, se introduce un segundo precursor que reacciona químicamente con el primero c) La reacción de una mezcla de gases dentro de una cámara de vacío que contiene el sustrato calentado d) Ninguna de las anterioresc) La reacción de una mezcla de gases dentro de una cámara de vacío que contiene el sustrato calentado
  86. 86Cuáles son las moléculas más recomendadas para la fabricación de nanoestructuras por el método layer by layer: a) Poliones b) Anfifilicas c) Hidrofilicas d) Todas las anterioresa) Poliones
  87. 87La técnica PLD se trabaja en condiciones de: a) Alto vacío b) Ultra alto vacío c) En condiciones atmosféricas d) Todas las anterioresb) Ultra alto vacío
  88. 88En la técnica Sol-gel un Aero gel se obtiene por: a) Evaporación del solvente b) Disminución de la concentración de las partículas c) Extracción del solvente d) Ninguna de las anterioresc) Extracción del solvente
  89. 89Los sustratos empleados en la técnica LBL no deben ser tipo: a) Hidrofobico b) Higroscopico c) Hidrofilico d) Ninguna de las anterioresa) Hidrofobico
  90. 90Es una ventaja del método sol-gel: a) Puede producir recubrimientos ultra gruesos con excelente adhesión entre el sustrato metálico y la superficie externa del recubrimiento b) Se pueden elaborar nuevos materiales que por métodos clásicos son más fáciles de obtener, tales como combinaciones de óxidos (SiO2, TiO2) c) Maneja temperaturas de sinterizacion de 200º - 600º C d) Es posible recubrir soportes con geometría simple, gracias a su falta de homogeneidadc) Maneja temperaturas de sinterizacion de 200º - 600º C
  91. 91Cuál de estos enunciados de ALD es falso: a) Es utilizado en el desarrollo de pantallas planas b) Ocurre procesos de quimisorcion c) Velocidad de depósito más alta que la CVD d) Proceso mediante depósito de capas monoatómicasc) Velocidad de depósito más alta que la CVD
  92. 92En MOVPE la formación de la capa epitaxial sobre la superficie del sustrato de produce por: a) Deposición b) Epitaxia c) Pirolisis d) Ninguno de los anterioresc) Pirolisis
  93. 93En IVD se evapora el material de revestimiento con la ayuda de a) Recubrimiento atómico b) Sustrato que se recubre en forma solida c) Un arco de baja tensión d) Depósito de alta tensión para recubrimientos durosc) Un arco de baja tensión
  94. 94El término epitaxia se refiere a: a) Formación de una monocapa cristalina a partir de moléculas b) Descomposición térmica de un cristal para formar una monocapa c) Crecimiento de un cristal a partir de una estructura cristalina similar d) Ninguna de las anterioresc) Crecimiento de un cristal a partir de una estructura cristalina similar
  95. 95Técnica utilizada para la fabricación de antiempañantes: a) CVD b) Langmuir c) MBE d) Ninguna de las anterioresb) Langmuir
  96. 96Cuáles de los siguientes compuestos no son anfifilicos: a) Fenol b) Formol c) Anilina d) Ninguno de los anterioresd) Ninguno de los anteriores
  97. 97Técnicas químicas que hacen parte del método de fabricación Bottom-up: a) ALE, SAM, MOVPE b) PLD, MBE, MOVPE c) MOVPE, Sol Gel, Spray Pyrolisis d) LB, SAM, Sol Geld) LB, SAM, Sol Gel
  98. 98Técnica utilizada para la formación de ADN: a) CVD b) ALD c) MBE d) SAd) SA
  99. 99Proceso que genera multicapas: a) Quimisorcion b) TEM c) Fisisorcion d) Todas las anterioresc) Fisisorcion
  100. 100Se presenta mojabilidad máxima en Langmuir cuando: a) Θ=20º b) Θ= 150º c) Θ=0º d) Θ= 180ºc) Θ=0º
  101. 101Cuantos átomos de oxigeno alineados caben en un 1nm: a) 1 átomo b) 7 átomos c) 50 átomos d) Ninguna de las anterioresd) Ninguna de las anteriores
  102. 102Las siguientes técnicas corresponden a métodos top-down a) Self-Assemby y Lithography b) Ball milling y chemical etching c) Atomic layer deposition y sol-gel d) Dry etching y Langmuir-Blodgettb) Ball milling y chemical etching
  103. 103En un proceso de autoensamblaje se consideran las siguientes interacciones moleculares a) Metal ligando b) Interacción π y π c) Puentes de hidrogeno d) Todas las anterioresd) Todas las anteriores
  104. 104Una ventaja de la técnica spray-pyrolisis es: a) Sistema económico y muy eficiente b) Alta reproducibilidad c) Se pueden obtener películas sobre sustratos rugosos d) Todas las anterioresd) Todas las anteriores
  105. 105Cuál de los siguientes alimentos poseen interacciones a escala nanometrica entre sus componentes: a) Queso b) Carne c) Pan d) Huevod) Huevo
  106. 106La obtención de películas por Dip-coating de materiales preparados por sol gel se pueden partir de a) Sol b) Gel c) Cualquiera de los dos d) Ninguno de los dosa) Sol
  107. 107Cuáles de los siguientes compuestos no formaría películas de Langmuir a) CH3(CH2)15COOH b) CH3(CH2)2Br c) CH3(CH2)9NH2 d) Todas las anterioresb) CH3(CH2)2Br
  108. 108Un nano tubo de carbón se puede definir como una nanoestructura tipo: a) 0-D b) 1-D c) 2-D d) 3-Db) 1-D
  109. 109El sputtering y la evaporación se pueden considerar procesos: a) PVD b) CVD c) PLD d) Todas las anterioresa) PVD
  110. 110De las siguientes estructuras indique cuales poseen un tamaño en el rango de nanoestructuras a) Un átomo de oro y una molécula de agua b) La molécula del ADN y una bacteria c) Un nanotubo de carbón y un glóbulo rojo d) Un liposoma y un fullerenod) Un liposoma y un fullereno
  111. 111En un ciclo ALD se llevan a cabo las siguientes etapas: a) Inmersión en el polianion; lavado; inmersión polication; lavado; inmersión polianion b) Liberación del primer precursor; evacuación de las especies no absorbidas; liberación del segundo precursor y evacuación de las especies no absorbidas c) Descomposición térmica; desorción de subproductos; adsorción especie activa y reducción térmica d) Ninguna de las anterioresb) Liberación del primer precursor; evacuación de las especies no absorbidas; liberación del segundo precursor y evacuación de las especies no absorbidas
  112. 112La leche y la mayonesa son emulsiones. La mayonesa es insoluble en agua, pero muy soluble en aceite. Podemos deducir que en la mayonesa: a) La fase continua es el aceite y la fase dispersa es el agua b) La fase continua es el agua y la fase dispersa es el aceite c) La fase continua y la fase dispersa son aceites d) La fase continua y la fase dispersas son acuosasb) La fase continua es el agua y la fase dispersa es el aceite
  113. 113Una de las diferencias del método de spray pyrolisis respecto al método CVD es: a) En el método spray pyrolisis usan temperaturas altas b) Lo extremadamente complejo del método CVD c) En el método CVD se obtienen recubrimientos más delgados d) El estado de agregación de los precursoresd) El estado de agregación de los precursores
  114. 114Una de las limitantes del método spray pyrolisis es la dificultad para preparar sistemas multicomponentes. Esto es debido a: a) Las altas temperaturas usadas en el proceso b) Las diferencias en las velocidades de nucleación de los materiales c) La imposibilidad de poder usar surfactantes que direccionen la estructura d) Todas las anterioresb) Las diferencias en las velocidades de nucleación de los materiales
  115. 115Diferencia entre fisisorcion y quimisorcion es que la primera: a) La energía de activación es mayor b) Solo es posible una monocapa c) Se puede dar en cualquier lugar de la superficie del material d) Todas las anterioresc) Se puede dar en cualquier lugar de la superficie del material
  116. 116Los materiales mesoporosos se encuentran dentro del rango de tamaño de poros: a) > 100 nm b) 2 nm y 50 nm c) < 2 nm d) Ninguna de las anterioresb) 2 nm y 50 nm
  117. 117La obtención de películas por Dip-Coating de materiales preparados por Sol-Gel se puede obtener a partir de a) El sol b) El gel c) Cualquiera de los dos d) Ninguna de los dosa) El sol
  118. 118El material para hacer sputtering llega al estado plasma porque: a) Se deslocalizan electrones a causa de Ar+ y aplicación de diferencial de voltaje b) El catión (argón) retira electrones y ordenan los electrones en la cobertura c) El ion Ar-1 se une a los átomos del recibimiento d) El argón puro le sede electrones y lo desestabilizaa) Se deslocalizan electrones a causa de Ar+ y aplicación de diferencial de voltaje
  119. 119Estos métodos son empleados para realizar la atomización en el proceso de Spray-Pyrolysis: a) Evaporación, precipitación, descomposición térmica b) Evaporación, difusión, sinterización del precursor c) Presurizado, ultrasónico, electrostático d) Presurizado, sinterizado, electrostáticoa) Evaporación, precipitación, descomposición térmica
  120. 120Una de las principales causas de los diferentes tamaños de las estructuras es la concentración del precursor metálico. De acuerdo con lo anterior podemos deducir que: a) La concentración del precursor de las nanopartículas en la micrografía “a” es menor que la concentración del precursor de las nanopartículas en “d” b) La concentración del precursor de las nanopartículas en la micrografía “b” es mucho mayor que la concentración del precursor de las nanopartículas en “c” c) La concentración del precursor de las nanopartículas en la micrografía “a” es mayor que la concentración del precursor de las nanopartículas en “d”a) La concentración del precursor de las nanopartículas en la micrografía “a” es menor que la concentración del precursor de las nanopartículas en “d”
  121. 121Técnica restrictiva con la afinidad química: a) IVD b) PVD c) ALD d) CVDc) ALD

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