Propiedades y crecimiento de cristales semiconductores

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Fisica de Semiconductores
Gustavo Angel Beristain Vazquez
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Propiedades y crecimiento de cristales semiconductores
  1. Semiconductor
    1. Es un elemento que se comporta como un conductor o como un aislante dependiendo de diversos factores.
      1. Por ejemplo:
        1. Silicio (Si)
          1. Es el segundo elemento más abundante en la corteza terrestre, es un material básico para la creación de obleas o chips.
          2. Arsenurio de Galio (GaAs)
            1. Es un compuesto de galio y arsénico, y tambien un importante semiconductor usado para fabricar dispositivos como: circuitos integrados.
        2. Proceso de crecimiento de una oblea de semiconductor.
          1. Se tiene un: Material inicial.
            1. Se le da un tratamiento químico y se obtiene un: Semiconductor policirstalino.
              1. Se realiza un crecimiento del cristal y tenemos un: Semiconductor monocristalino.
                1. El cual, se corta, limpia y pule para obtener finalmente: Una oblea.
        3. Obtención de Si puro
          1. Crecimiento de lingotes de Silicio
            1. Material inicial: SiO2, arena denominada cuarcita
              1. Va al horno junto con hulla, coke, astillas de madera
                1. SiC(solido) + SiO2(solido) R Si(solido) + SiO(gas) + CO(gas)
                  1. Produce: Silicio Metalúrgico (MGS) con pureza del 98%
                    1. Se purifica pulverizando el Silicio y tratando con cloruro de hidrógeno para obtener triclorosilano (SiHCl3)
                      1. SiO2(solido) + 3HCl(gas) ® SiHCl3(gas) + H2(gas)
                        1. Se reduce con silicio para obtener silicio electrónico (EGS)
                          1. El EGS es silicio policrstalino de alta pureza y es el elemento de partida para crear silicio monocristalino.
          2. Crecimiento en volumen
            1. Obtenido silicio de alta pureza o EGS, se crea el lingote que requiere silicio con estructura cristalina
              1. Para obtener cristal de Si hay dos tecnicas:
                1. Metodo de Czochralski
                  1. Para obtener Si monocristalino a partir de Si policristalino (EGS)
                    1. Se usa el Puller
                      1. Sus componentes principales son:
                        1. A) Horno
                          1. B) Mecanismo de crecimiento de cristal
                            1. C) Mecanismo del control de ambiente

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